La IEAT ordena la limpieza urgente de aguas residuales en el polígono industrial de Map Ta Phut
La Autoridad de Polígonos Industriales de Tailandia (IEAT) ha identificado aguas ácidas y contaminadas con metales pesados en fosas de hormigón en Map Ta Phut y ha ordenado medidas de contención inmediatas.
La Autoridad de Polígonos Industriales de Tailandia (IEAT) ha emitido una directiva urgente a los inquilinos del polígono industrial de Map Ta Phut tras el descubrimiento de aguas residuales que contienen altos niveles de ácido y metales pesados, incluido el zinc, en fosas de almacenamiento de hormigón. El gobernador de la IEAT, Sumeth Tangprasert, confirmó que, aunque estas sustancias superan los umbrales de seguridad estándar, actualmente no hay pruebas de filtraciones al suelo o a las aguas subterráneas circundantes. Para mitigar los riesgos, la IEAT ha ordenado a los inquilinos que comiencen inmediatamente a bombear las aguas residuales a contenedores de almacenamiento seguros y adecuados, dando prioridad a las fosas descubiertas. Está estrictamente prohibido a los inquilinos trasladar los residuos fuera del recinto sin autorización legal. La IEAT ha solicitado un plan de acción detallado y un calendario para la limpieza, con una sesión informativa formal programada para el 9 de noviembre de 2026. Para los residentes y visitantes de la zona de Rayong, esta situación pone de relieve los esfuerzos de vigilancia medioambiental en curso. La Oficina de Industria de la provincia de Rayong ha recogido muestras de agua adicionales para su análisis, y la IEAT tiene previsto contratar a un tercero independiente para realizar más pruebas de suelo y agua antes del 9 de noviembre de 2026. Se ha ordenado a los operadores actuales y anteriores que presenten pruebas y explicaciones sobre el origen de la contaminación en un plazo de tres días. Aunque la situación está actualmente contenida dentro del recinto industrial, se esperan más actualizaciones tras las próximas inspecciones y la presentación de los informes de los operadores.